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Harvard Akzeptiert die Elionix ELS-7000 EBL-System

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Harvard Akzeptiert die Elionix ELS-7000 EBL-System



<div><p>Harvard-Forscher vor kurzem nahm die Elionix ELS-7000 100 kV Elektronenstrahl-Lithographiesystem am Center for Nanoscale Systems (ZNS). Die 100 kV-System kann das Schreiben von feinen Mustern von 8 nm und der Minimierung der Proximity-Effekte, die beim Schreiben von kleinen Mustern auftreten. Das Neueste&nbsp;<a href="http://www.cns.fas.harvard.edu/about/docs/NanoWire_Fall_2007.pdf" style="box-sizing: border-box; font-family: 'Arial Black', 'Arial Bold', Gadget, sans-serif; color: #428bca; text-decoration: none; background: transparent;">ZNS-Nanodraht-Newsletter (0,9 MB pdf)</a>&nbsp;besagt Folgendes in Bezug auf die ELS-7000-Installation, "Während der Installation konnten wir feinere Linien zu schreiben, Mess 5 nm, als das, was die Herstellung gibt an, 8 nm." Das Instrument wird in LISE G07, dem neuen Reinraum im Erdgeschoss des Gebäudes an der Harvard LISE entfernt.&nbsp;<a href="http://www.nanotech-now.com/news.cgi?story_id=24979" style="box-sizing: border-box; font-family: 'Arial Black', 'Arial Bold', Gadget, sans-serif; color: #428bca; text-decoration: none; background: transparent;">Read More &gt;&gt;</a></p></div>

December 8, 2015