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Harvard Acepta el Sistema EBL Elionix ELS-7000

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Harvard Acepta el Sistema EBL Elionix ELS-7000



Investigadores de Harvard aceptadas recientemente el sistema de 100kV Electron Beam Litografía Elionix ELS-7000 en el Centro de Sistemas de nanoescala (SNC). El sistema de 100 kV es capaz de escribir patrones finos de 8 nm, y la minimización de los efectos de proximidad que se producen al escribir patrones pequeños. Lo último SNC nanocables Newsletter (0.9 MB pdf) establece lo siguiente respecto a la instalación ELS-7000: "Durante la instalación hemos sido capaces de escribir las líneas más finas, que mide 5 nm, que lo que la especifica la producción, 8 nm." El instrumento se encuentra en LISE G07, la nueva sala blanca en la planta baja del edificio LISE en Harvard. Lee mas >>

December 8, 2015