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Harvard accepte le système EBL Elionix ELS-7000

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Harvard accepte le système EBL Elionix ELS-7000



Les chercheurs de Harvard a récemment accepté le système 100kV faisceau d'électrons Lithographie Elionix ELS-7000 au Center for Nanoscale Systems (CNS). Le système 100kV est capable d'écrire des motifs fins de 8nm, et de minimiser les effets de proximité qui se produisent lors de l'écriture de petits motifs. La dernière  SNC nanofil Newsletter (0,9 Mo pdf) déclare ce qui suit concernant l'installation ELS-7000, "Lors de l'installation, nous étions en mesure d'écrire des lignes plus fines, mesurant 5 nm, que ce que le spécifie la production, 8nm." L'instrument est situé dans LISE G07, la nouvelle salle blanche sur le rez de chaussée de l'immeuble de LISE à Harvard.  En savoir plus >>

December 8, 2015